K.Goto,J.Murota,F.Honma,T.Matsuura,and Y.Sawada: "A Super Self-Aligned Ultrashallow Junction Formation Using Selective Si_<1-x>Ge_x CVD in Deep-Submicron MOSFET's Fabrication" Proceedings of the 5th International Symposium on Ultra Large Scale Integration
K.Goto,J.Murota,F.Honma,T.Matsuura,and Y.Sawada: "A Super Self-Aligned Ultrashallow Junction Formation Using Selective Si_<1-x>Ge_x CVD in Deep-Submicron MOSFET's Fabrication" Proceedings of the 5th International Symposium on Ultra Large Scale Integration
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K.Goto、J.Murota、F.Honma、T.Matsuura 和 Y.Sawada：“在深亚微米 MOSFET 的制造中使用选择性 Si_<1-x>Ge_x CVD 形成超级自对准超浅结”论文集
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