High purity β-FeSi2 formed on silicon(001) substrates by an vacuum Deposition method
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真空沉积法在硅(001)衬底上形成高纯β-FeSi2
DOI：
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发表时间：
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期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Makoto Ishii
中科院分区：
文献类型：
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作者：
M.Ishii;S.Hanamura;T.Miyata;T.Minami;石井 恂;M.Ishii et al.;M.Ishii et al.;M.Ishii et al.;Makoto Ishii
