Residual stress and its thermal relaxation in TiN films
Residual stress and its thermal relaxation in TiN films
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TiN 薄膜中的残余应力及其热弛豫
DOI：
10.1016/0040-6090(96)08632-4
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发表时间：
1996
期刊：
影响因子：
2.1
通讯作者：
Y. Ikeuchi
中科院分区：
文献类型：
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作者：
T. Matsue;T. Hanabusa;Y. Ikeuchi
