カルーセルスパッタ法における異方性入射粒子の形成と堆積に及ぼす下地層の影響

カルーセルスパッタ法における異方性入射粒子の形成と堆積に及ぼす下地層の影響
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底层对转盘溅射中各向异性入射粒子形成和沉积的影响

DOI:
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发表时间:
2010
期刊:
影响因子:
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通讯作者:
今泉良一,宗像誠,大越正敏,槙孝一郎
今泉良一,宗像誠,大越正敏,槙孝一郎
中科院分区:
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文献类型:
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作者:
野毛悟;宇野武彦;野毛悟,宇野武彦;今泉良一,宗像誠,大越正敏,槙孝一郎

文献摘要

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