K.Y.Kim,M.Koyanagi,et.al: "Effect of rapid thermal annealing after N implanting into silicon" Extended Abstracts The Japan Society of Applied Physics and Related Societies. 印刷中. (1999)
K.Y.Kim,M.Koyanagi,et.al: "Effect of rapid thermal annealing after N implanting into silicon" Extended Abstracts The Japan Society of Applied Physics and Related Societies. 印刷中. (1999)
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K.Y.Kim、M.Koyanagi 等人：“N 注入硅后快速热退火的影响”扩展摘要日本应用物理学会及相关学会出版（1999 年）。
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