Etching and oxidation of InAs in planar inductively coupled plasma
Etching and oxidation of InAs in planar inductively coupled plasma
复制标题
平面电感耦合等离子体中 InAs 的蚀刻和氧化
DOI：
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发表时间：
2009
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
V. Kesler
中科院分区：
文献类型：
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作者：
F. Dultsev;V. Kesler
