Microstructure/dielectric property relationship of low temperature synthesised (Na,K)NbOx thin films
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DOI：
10.1016/j.jcrysgro.2003.10.035
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发表时间：
2004-02
影响因子：
1.8
通讯作者：
V. Kugler;Fredrik Söderlind;D. Music;U. Helmersson;J. Andreasson;T. Lindbäck
中科院分区：
文献类型：
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作者：
V. Kugler;Fredrik Söderlind;D. Music;U. Helmersson;J. Andreasson;T. Lindbäck
