Study of AlN growth conditions for hydride vapor phase epitaxy
Study of AlN growth conditions for hydride vapor phase epitaxy
复制标题
氢化物气相外延AlN生长条件的研究
DOI：
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发表时间：
2014
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
K. Hiramatsu and T. Kawamura
中科院分区：
文献类型：
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作者：
D. Yasui;H. Miyake;K. Hiramatsu and T. Kawamura
