大気圧プラズマCVD 法によるLayered-hybridシリカ膜の作製
大気圧プラズマCVD 法によるLayered-hybridシリカ膜の作製
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常压等离子体CVD法制备层状杂化二氧化硅薄膜
DOI：
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发表时间：
2020
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
川崎貢功，長澤寛規，金指正言，都留稔了
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Nagasawa Hiroki;Kagawa Takahiko;Noborio Takuji;Kanezashi Masakoto;Ogata Atsushi;Tsuru Toshinori;長澤 寛規;Hiroki Nagasawa;長澤 寛規，登尾 拓史，金指 正言，都留 稔了;川崎貢功，長澤寛規，金指正言，都留稔了
