中島利勝・大橋一仁: "Affected Layer in Grinding of Sialon" Proceeding of ICPCG´94. 1. 447-452 (1994)
中島利勝・大橋一仁: "Affected Layer in Grinding of Sialon" Proceeding of ICPCG´94. 1. 447-452 (1994)
复制标题
Toshikatsu Nakajima 和 Kazuhito Ohashi:“Sialon 磨削中的受影响层”ICPCG´94 论文集,1. 447-452 (1994)。
DOI:
--
复制
发表时间:
--
期刊:
影响因子:
--
通讯作者:
中科院分区:
文献类型:
--
作者: