(Photo)electrochemistry: a suitable tool for investigating wet etching processes on III–V semicondutors
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DOI：
10.1016/0013-4686(92)85034-i
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发表时间：
1992-04
影响因子：
6.6
通讯作者：
H. Goossens;W. Gomes
中科院分区：
文献类型：
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作者：
H. Goossens;W. Gomes
