Y.Hayashi and K.Tachibana: "Mie-scattering ellipsometry-A new in-process monitoring method for particle growth in plasmas-" Oyo Buturi. 64-6 (in Japanese). 565-569 (1995)
Y.Hayashi and K.Tachibana: "Mie-scattering ellipsometry-A new in-process monitoring method for particle growth in plasmas-" Oyo Buturi. 64-6 (in Japanese). 565-569 (1995)
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Y.Hayashi 和 K.Tachibana：“米氏散射椭圆光度法 - 等离子体中粒子生长的新过程监测方法 -”Oyo Buturi。
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