Ling Pulse EUV Source using Magnetically Guided Discharge Plasma

Ling Pulse EUV Source using Magnetically Guided Discharge Plasma
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使用磁导放电等离子体的 Ling 脉冲 EUV 源

DOI：
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发表时间：
2007
期刊：
IEEJ Technical Meeting on Pulsed Power Technology PPT-07-45
影响因子：
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通讯作者：
Horioka
Horioka
中科院分区：
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文献类型：
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作者：
Ken;Terada;Mitsuo;Nakajima;Tohru;Kawamura;Tomoaki;Hosokai;Eiki;Hotta;Kazuhiko;Horioka

文献摘要

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