豊田 正道: "MOCVDーTiO_2薄膜の成長過程のエリプソメトリ-によるInーSitu解析" 日本金属学会誌. 54. 925-932 (1990)
豊田 正道: "MOCVDーTiO_2薄膜の成長過程のエリプソメトリ-によるInーSitu解析" 日本金属学会誌. 54. 925-932 (1990)
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Masamichi Toyoda：“MOCVD - 基于椭圆光度法的 TiO_2 薄膜生长过程的原位分析”日本金属研究所学报 54. 925-932 (1990)。
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