高周波マグネトロンスパッタリング法によるCu3N薄膜の膜特性に及ぼす基板温度及び基板位置の効果
高周波マグネトロンスパッタリング法によるCu3N薄膜の膜特性に及ぼす基板温度及び基板位置の効果
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基片温度和基片位置对高频磁控溅射法制备Cu3N薄膜薄膜性能的影响
DOI：
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发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
大石美帆，齊藤勝彦，郭其新，田中徹
中科院分区：
文献类型：
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作者：
大石美帆，齊藤勝彦，郭其新，田中徹
