Deposition of Si Quantum-Dot Thin Films for So1er Cell Applications using Multi-Hollow Discharge Plasma CVD
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使用多空心放电等离子体 CVD 沉积用于太阳能电池应用的硅量子点薄膜
DOI：
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发表时间：
2012
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
M. Shiratani
中科院分区：
文献类型：
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作者：
G. Uchida;M. Sato;H. Seo;Y. Wang;K. Kamatai;N. Itagakit;K. Koga;M. Shiratani
