Yasushi Inoue: "Properties of silicon oxide films deposited by plasma-enhanced CVD using organosilicon reactants and mass analysis in plasma"Thin Solid Films. 341. 47-51 (1999)
Yasushi Inoue: "Properties of silicon oxide films deposited by plasma-enhanced CVD using organosilicon reactants and mass analysis in plasma"Thin Solid Films. 341. 47-51 (1999)
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Yasushi Inoue：“使用有机硅反应物和等离子体中的质量分析通过等离子体增强 CVD 沉积的氧化硅薄膜的特性”固体薄膜。
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