Birefringence suppression of UV-induced refractive index with grooves in silica-based planar lightwave circuits
Birefringence suppression of UV-induced refractive index with grooves in silica-based planar lightwave circuits
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硅基平面光波电路中凹槽对紫外线引起的折射率的双折射抑制
DOI：
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发表时间：
2005
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Y. Hibino
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Y. Nasu;M. Kohtoku;M. Abe;Y. Hibino
本文提出了一种有效的方法来抑制紫外光引起的折射率变化的双折射，用于平面光波导的相位微调。通过在波导的两侧采用凹槽来控制紫外光引起的应变，在2 mm长的波导中，对于TE和TM模之间的平均π相移，紫外光引起的双折射从1.46 × 10 - 4显著减小到0.11 × 10 - 4。
An effective method for suppressing the birefringence of a UV-induced refractive index change is demonstrated for phase trimming of waveguides in planar lightwave circuits. By employing grooves on both sides of the waveguide to control the UV-induced strain, a significant reduction is achieved from 1.46 x 10 -4 to 0.11 x 10 -4 in the UV-induced birefringence for a π phase shift averaged between the TE and TM modes in a 2 mm-long waveguide.