K. Kimura et al: "Amorphization of Si (001) by ultra low energy (0.5 to 5 keV) ion implantation observed with high-resolution RBS"Nucl. Instr. and Meth. in Phys. Res.. B148. 284-288 (1999)
K. Kimura et al: "Amorphization of Si (001) by ultra low energy (0.5 to 5 keV) ion implantation observed with high-resolution RBS"Nucl. Instr. and Meth. in Phys. Res.. B148. 284-288 (1999)
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K. Kimura 等人：“用高分辨率 RBS 观察到超低能量（0.5 至 5 keV）离子注入对 Si (001) 的非晶化”Nucl。
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