Surface electron emission lithography system based on a planar type Si nanowire array ballistic electron source
Surface electron emission lithography system based on a planar type Si nanowire array ballistic electron source
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基于平面型硅纳米线阵列弹道电子源的表面电子发射光刻系统
DOI：
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发表时间：
2010
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
and N. Koshida
中科院分区：
文献类型：
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作者：
A. Kojima;T. Ohta;H. Ohi;and N. Koshida
