磁性薄膜の成長制御と評価解析技術の進展

磁性薄膜の成長制御と評価解析技術の進展
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磁性薄膜生长控制与评价分析技术进展

DOI:
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发表时间:
2014
期刊:
電子情報通信学会技術研究報告
影响因子:
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通讯作者:
二本正昭
二本正昭
中科院分区:
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文献类型:
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作者:
Mitsuru Ohtake;Daisuke Suzuki;and Masaaki Futamoto;二本正昭

文献摘要

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