K. SUGITA and N. UENO: "Sensitivity enhancement of alpha-methylstyrene copolymer electron beam resists by force development." Polymer 30 July 1308-1313 (1989).
K. SUGITA and N. UENO: "Sensitivity enhancement of alpha-methylstyrene copolymer electron beam resists by force development." Polymer 30 July 1308-1313 (1989).
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K. SUGITA 和 N. UENO：“α-甲基苯乙烯共聚物电子束的灵敏度增强可通过力的发展来抵抗。”
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