K.Furukawa et al: "Room Temperature Deposition of Silicon Nitride Films with Low Stress Sputtering-Type Electron Cyclotron Resonance Plasma"MRS.Res.Soc.Symp.Proc.. 594. 457-462 (2000)
K.Furukawa et al: "Room Temperature Deposition of Silicon Nitride Films with Low Stress Sputtering-Type Electron Cyclotron Resonance Plasma"MRS.Res.Soc.Symp.Proc.. 594. 457-462 (2000)
复制标题
K.Furukawa 等人：“用低应力溅射型电子回旋共振等离子体室温沉积氮化硅薄膜”MRS.Res.Soc.Symp.Proc.. 594. 457-462 (2000)
DOI：
--
复制
发表时间：
--
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
