Critical Dimension Evaluation of an EUV Mask utilizing the Coherent EUV Scatterometry Microscope
Critical Dimension Evaluation of an EUV Mask utilizing the Coherent EUV Scatterometry Microscope
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利用相干 EUV 散射测量显微镜评估 EUV 掩模的关键尺寸
DOI：
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发表时间：
2010
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Hiroo Kinoshita
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Tetsuo Harada;Masato Nakasuji;Masaki Tada;Takeo Watanabe;Hiroo Kinoshita
