G. Tochitni, M. Shimozuma and H. Tagashira: "Estimation of silicon oxide films deposited by 50Hz plasma CVD using teos" Symposium on Plasma Processing. 9. 115-118 (1992)
G. Tochitni, M. Shimozuma and H. Tagashira: "Estimation of silicon oxide films deposited by 50Hz plasma CVD using teos" Symposium on Plasma Processing. 9. 115-118 (1992)
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G. Tochitni、M. Shimozuma 和 H. Tagashira：“使用 Teos 对通过 50Hz 等离子 CVD 沉积的氧化硅薄膜进行估计”等离子处理研讨会。
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