制約2次計画法および2次錐計画法を用いた半導体露光装置用レンズの最適調整
制約2次計画法および2次錐計画法を用いた半導体露光装置用レンズの最適調整
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利用约束二次规划和二次锥规划对半导体光刻设备透镜进行优化调整
DOI：
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发表时间：
2009
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
深川容三
中科院分区：
文献类型：
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作者：
品野勇治;吉原俊幸;宮代隆平;深川容三
