K. Hashimoto, K. Miura, T. Masuda, M. Toma, H. Sawai and M. Kawase: "Kinetic Analysis of Polycrystalline Silicon Growth from Silane Using a Rod-Substrate CVD Reactor" Kagaku Kogaku Ronbunsyu. 16, 3. 438-446 (1990)
K. Hashimoto, K. Miura, T. Masuda, M. Toma, H. Sawai and M. Kawase: "Kinetic Analysis of Polycrystalline Silicon Growth from Silane Using a Rod-Substrate CVD Reactor" Kagaku Kogaku Ronbunsyu. 16, 3. 438-446 (1990)
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K. Hashimoto、K. Miura、T. Masuda、M. Toma、H. Sawai 和 M. Kawase：“使用棒基 CVD 反应器对硅烷生长多晶硅的动力学分析” Kagaku Kogaku Ronbunsyu。
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