Temperature dependence of oxidation-induced changes of work function on Si(001)2×1surface studied by real-time ultraviolet photoelectron spectroscopy
Temperature dependence of oxidation-induced changes of work function on Si(001)2×1surface studied by real-time ultraviolet photoelectron spectroscopy
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实时紫外光电子能谱研究Si(001)2×1表面氧化引起功函数变化的温度依赖性
DOI：
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发表时间：
2005
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
S.Ogawa
中科院分区：
文献类型：
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作者：
K.Fukutani;K.Niki;T.Ito;H.Tashiro;M.Matsumoto;M.Wilde;T.Okano;W.A.Dino;H.Kasai;S.Ogawa;S.Ogawa;高桑雄二;S.Ogawa et al.;S.Ogawa et al.;Y.Takakuwa et al.;高桑雄二;S.Ogawa;小川修一;S.Ogawa;高桑雄二;寺岡有殿;S.Ogawa et al.;Y.Takakuwa et al.;Y.Teraoka et al.;S.Ogawa
