Optimized marker definition for high overlay accuracy e-beam lithography
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优化的标记定义，实现高重叠精度电子束光刻
DOI：
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发表时间：
2012
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
B. Rienks
中科院分区：
文献类型：
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作者：
J. Moers;S. Trellenkamp;D. Grützmacher;A. Offenhäusser;B. Rienks
