Relation between gaseous radicals and μc-Si film property in SiH4/H2 plasma CVD
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SiH4/H2等离子体CVD中气态自由基与μc-Si薄膜性能的关系
DOI：
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发表时间：
2013
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
M. Hori
中科院分区：
文献类型：
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作者：
A. Fukushima;Y. Lu;Y. Abe;K. Takeda;H. Kondo;K. Ishikawa;M. Sekine;M. Hori
