Adhesion Mechanism of Micro Bubbles on ArF and F2 Excimer Resists

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微气泡在ArF和F2准分子光刻胶上的粘附机理

DOI：
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发表时间：
2004
期刊：
J. Photopolymer Science and Technology 17・5
影响因子：
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通讯作者：
Akira Kawai
Akira Kawai
中科院分区：
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文献类型：
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作者：
Hotaka Endo;Akira Kawai

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