Epitaxial Ge/Metallic Silicide Grown on Si with Atomically Smooth Heterointerfaces
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复制标题
具有原子光滑异质界面的硅上生长的外延Ge/金属硅化物
DOI：
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发表时间：
2013
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
K. Hamaya
中科院分区：
文献类型：
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作者：
S. Yamada;M. Kawano;K. Tanikawa;K. Sawano;M. Miyao;K. Hamaya
