Characterization of epitaxial BiFeO3 thin films prepared by ion beam sputtering
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DOI：
10.1016/j.cap.2010.11.066
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发表时间：
2011-05
影响因子：
2.4
通讯作者：
S. Nakashima;Y. Tsujita;H. Fujisawa;J. Park;T. Kanashima;M. Okuyama;M. Shimizu
中科院分区：
文献类型：
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作者：
S. Nakashima;Y. Tsujita;H. Fujisawa;J. Park;T. Kanashima;M. Okuyama;M. Shimizu
