ポジ型電子線レジストの各プロセスにおける分子レベルでの考察
ポジ型電子線レジストの各プロセスにおける分子レベルでの考察
复制标题
正电子束光刻胶各工序从分子层面考虑
DOI：
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发表时间：
2018
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
中川 勝
中科院分区：
文献类型：
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作者：
尾﨑 優貴;伊東 駿也;中村 貴宏;中川 勝
