K.Sawano, K.Arimoto, Y.Hirose, S.Koh, N.Usami, K.Nakagawa, T.Hattori, Y.Shiraki: "Planarization of SiGe virtual substrates by CMP and its application to strained Si modulation-doped structures"J. Cryst. Growth. 251. 693-696 (2003)
K.Sawano, K.Arimoto, Y.Hirose, S.Koh, N.Usami, K.Nakagawa, T.Hattori, Y.Shiraki: "Planarization of SiGe virtual substrates by CMP and its application to strained Si modulation-doped structures"J. Cryst. Growth. 251. 693-696 (2003)
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K.Sawano、K.Arimoto、Y.Hirose、S.Koh、N.Usami、K.Nakakawa、T.Hattori、Y.Shiraki：“通过 CMP 平坦化 SiGe 虚拟衬底及其在应变 Si 调制掺杂结构中的应用
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