Deterministic Influence of Substrate-Induced Oxygen Vacancy Diffusion on Bi2WO6 Thin Film Growth
Deterministic Influence of Substrate-Induced Oxygen Vacancy Diffusion on Bi2WO6 Thin Film Growth
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DOI：
10.1021/acs.cgd.0c01428
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发表时间：
2020-12
影响因子：
3.8
通讯作者：
Saikat Das;T. Ohkubo;S. Kasai;Y. Kozuka
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Saikat Das;T. Ohkubo;S. Kasai;Y. Kozuka
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