Mechanical variation of plasma potential, electron temperature and plasma density
Mechanical variation of plasma potential, electron temperature and plasma density
复制标题
等离子体电势、电子温度和等离子体密度的机械变化
DOI：
10.1088/0963-0252/1/2/003
复制
发表时间：
1992
影响因子：
3.8
通讯作者：
J. Pruski
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
N. Hershkowitz;M. Cho;J. Pruski
结果表明，通过改变位于表面多偶极磁场中的接地板的位置，可以改变限制在多偶极等离子体装置中的电容耦合射频等离子体的等离子体电势和电子温度。
It is shown that the plasma potential and electron temperature of capacitively coupled RF plasmas, confined in a multi-dipole plasma device, can be varied by changing the position of a grounded plate located in the surface multi-dipole magnetic field.