C_8F_<18>プラズマCVDによる低誘電率膜堆積とその化学的,電気的特性
C_8F_<18>プラズマCVDによる低誘電率膜堆積とその化学的,電気的特性
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C_8F_<18>等离子体CVD沉积低介电常数薄膜及其化学和电学性能
DOI：
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发表时间：
2005
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
菅原広剛
中科院分区：
文献类型：
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作者：
田澤将太;酒井洋輔;須田善行;菅原広剛
