Resistance measurements of metallic silicide nanowires on a Si substrate with a four-tip scanning tunneling microscope
Resistance measurements of metallic silicide nanowires on a Si substrate with a four-tip scanning tunneling microscope
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使用四尖扫描隧道显微镜测量硅衬底上金属硅化物纳米线的电阻
DOI：
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发表时间：
2005
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
P.A.Bennett
中科院分区：
文献类型：
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作者：
H.Okino;I.Matsuda;R.Hobara;Y.Hosomura;S.Hasegawa;P.A.Bennett
