シリコンバレーにおけるハイテク・スタートアップス成長のメカニズム

シリコンバレーにおけるハイテク・スタートアップス成長のメカニズム
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硅谷高科技创业公司成长机制

DOI:
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发表时间:
2008
期刊:
研究技術計画 Vol.23、No.2
影响因子:
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通讯作者:
田路則子
田路則子
中科院分区:
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文献类型:
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作者:
田路則子;五十嵐伸吾;田路則子

文献摘要

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