Room-temperature atomic layer deposition of iron oxide using plasma excited humidified argon
Room-temperature atomic layer deposition of iron oxide using plasma excited humidified argon
复制标题
使用等离子体激发湿氩进行氧化铁的室温原子层沉积
DOI：
10.1116/6.0001622
复制
发表时间：
2022
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
Hirose Fumihiko
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Yoshida Kazuki;Nagata Issei;Saito Kentaro;Miura Masanori;Kanomata Kensaku;Ahmmad Bashir;Kubota Shigeru;Hirose Fumihiko
