CVRD (Chemical Vapor Reductive Deposition)法による機能性薄膜の特性向上
CVRD (Chemical Vapor Reductive Deposition)法による機能性薄膜の特性向上
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使用CVRD（化学气相还原沉积）方法改善功能薄膜的性能
DOI：
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发表时间：
2006
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
吉永勝己
中科院分区：
文献类型：
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作者：
村上聖;山本修一;村上 聖;山本修一;山本 修一;山本修一;Masaki Yoshinaga;M.Yoshinaga;高橋英志;中村貴宏;Yoji Sunagawa;吉永勝己
