X-ray photoelectron spectroscopy studies of the effects of plasma etching on amorphous carbon nitride films
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DOI：
10.1016/s0169-4332(02)00225-8
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发表时间：
2002-06
影响因子：
6.7
通讯作者：
Liudi Jiang;A. Fitzgerald;M. Rose;R. Cheung;B. Rong;E. V. Drift
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Liudi Jiang;A. Fitzgerald;M. Rose;R. Cheung;B. Rong;E. V. Drift
