Plasmon Standing Waves by Oxidation of Si(553)–Au
Plasmon Standing Waves by Oxidation of Si(553)–Au
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Si(553)–Au 氧化产生的等离激元驻波
DOI：
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发表时间：
2019
影响因子：
3.7
通讯作者：
H. Pfnur
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Zamin Mamiyev;M. Tzschoppe;C. Huck;A. Pucci;H. Pfnur
自组装的Au原子线上的阶梯状的Si表面是金属的，证明了一维分散的等离子体激发。在这里，我们采用红外吸收和高分辨电子能量损失谱研究氧化对沿着这样的Au原子线在规则台阶的Si（553）表面上的金属性的影响。我们的研究结果表明，只有硅环境进行氧化，这对等离子体激元色散的影响非常小。然而，接近k ε → 0时，等离子体激元色散开始于作为氧暴露的函数的越来越高的能量，这归因于通过引入O原子作为散射中心而产生的Au线的小部分上的驻波形成，而不是电子间隙打开。这一解释与红外光谱和低能电子衍射的结果完全一致。
Self-assembled Au atomic wires on stepped Si surfaces are metallic, as evidenced by one-dimensionally dispersing plasmonic excitation. Here, we investigate the effects of oxidation on metallicity along such Au atomic wires on a regularly stepped Si(553) surface by employing infrared absorption and high-resolution electron energy loss spectroscopies. Our results indicate that only the Si environment undergoes oxidation, which has a remarkably small effect on the plasmon dispersion. However, close to k∥ → 0 the plasmon dispersion starts at increasingly higher energies as a function of oxygen exposure, which is attributed to standing wave formation on small sections of Au wires generated by the introduction of O atoms as scattering centers, not to electronic gap opening. This interpretation is in full agreement with the findings by infrared spectroscopy and low-energy electron diffraction.
影响因子：
3.7
作者：
Braun, C.;Gerstmann, U.;Schmidt, W. G.
通讯作者：
Schmidt, W. G.
一维原子线阵列中等离激元激发的二维交叉和强耦合
影响因子：
3.7
作者：
T. Lichtenstein;J. Aulbach;J. Schäfer;R. Claessen;C. Tegenkamp;H. Pfnür
通讯作者：
H. Pfnür
影响因子：
3.3
作者：
Krieg, U.;Lichtenstein, T.;Pfnuer, H.
通讯作者：
Pfnuer, H.