Segregation and diffusion of impurities from doped Si1-xGex films into silicon
Segregation and diffusion of impurities from doped Si1-xGex films into silicon
复制标题
杂质从掺杂 Si1-xGex 薄膜到硅中的偏析和扩散
DOI：
10.1016/s0040-6090(00)00811-7
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发表时间：
2000
期刊：
影响因子：
2.1
通讯作者：
J. Murota
中科院分区：
文献类型：
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作者：
S. Kobayashi;T. Aoki;N. Mikoshiba;M. Sakuraba;T. Matsuura;J. Murota
