high rate and low temperature silicon deposition via mesoplasma CVDメゾプラズマCVDによる高品質シリゴン膜の低温高速堆積
high rate and low temperature silicon deposition via mesoplasma CVDメゾプラズマCVDによる高品質シリゴン膜の低温高速堆積
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通过中间等离子体 CVD 进行高速、低温硅沉积 通过中间等离子体 CVD 进行低温、高速沉积高质量硅薄膜
DOI：
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发表时间：
2009
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
神原淳
中科院分区：
文献类型：
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作者：
中村雅人;片桐清文;河本邦仁;神原淳
