Influence of the nitrogen content on the field emission properties of a-CNx films prepared by pulsed laser deposition
Influence of the nitrogen content on the field emission properties of a-CNx films prepared by pulsed laser deposition
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氮含量对脉冲激光沉积a-CNx薄膜场发射性能的影响
DOI：
10.1016/s0169-4332(02)00389-6
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发表时间：
2002
影响因子：
6.7
通讯作者：
O. Pons
中科院分区：
文献类型：
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作者：
E. Fogarassy;T. Szörényi;F. Antoni;J. Stoquert;G. Pirio;J. Olivier;P. Legagneux;P. Boher;O. Pons
