ナノパターンモールドフォトマスクと光ナノインプリントによる石英マイクロ流路の製作プロセスの提案
ナノパターンモールドフォトマスクと光ナノインプリントによる石英マイクロ流路の製作プロセスの提案
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使用纳米图案模具光掩模和光学纳米压印的石英微通道制造工艺的提案
DOI：
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发表时间：
2014
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
西岡國生
中科院分区：
文献类型：
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作者：
安倍強;島津公紀;乙部由美子;谷口茂;西岡國生
