Potential sputtering fiom a Si surface by very highly charged ion impact
Potential sputtering fiom a Si surface by very highly charged ion impact
复制标题
通过非常高的带电离子冲击从硅表面产生潜在的溅射
DOI：
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发表时间：
2007
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
et. al.
中科院分区：
文献类型：
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作者：
M. Tona;et. al.
