Hydrogen behavior in tungsten oxide layer deposited by RF plasma and PLD
Hydrogen behavior in tungsten oxide layer deposited by RF plasma and PLD
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RF 等离子体和 PLD 沉积的氧化钨层中的氢行为
DOI：
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发表时间：
2007
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
S. Nagata
中科院分区：
文献类型：
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作者：
A. Inouye;S. Yamamoto;S. Nagataほか;S.Nagata ほか;永田 晋二;井上 愛知;山本 春也;S. Yamamoto;永田 晋二;永田 晋二;S. Nagata
